第122章 三大件的解决方案
第122章三大件的解决方案
EUV光刻机的核心技术,主要由三大系统构成。
首先是EUV光源系统,这个系统负责制造光刻过程中,需要用到的特殊光线。
从第一代的UV光刻机,到第五代的EUV光刻机,光线的波长也从436nm,缩短到了13.5nm,目前所有的光刻机,就是通过光线的不同,来区分技术等级的。
这其中主要涉及到的原理,就是光学中光线波长和清晰度的关系。
最简单的道理,就是进入黄色的钨丝灯房间,大部分人都会感觉视线昏暗,
哪怕多加几个灯泡,也始终感觉没有白色的LED灯那么明亮和清晰。
这就是因为黄色光的波长,要远高于白色光,
光线的波长,就像是海浪一样,越大的波浪,拍打在海防堤上的水位高低起伏就越大。
而这个水位的高低落差,换成在光学领域,就成了影响阴影边缘清晰度的重要因素。
因此,想要达到越小制程的芯片工艺,就需要波长越短,越无限接近绝对直线的光。
而在EUV光源技术上,据康驰目前所能查到的资料来看,国内的常春光所应该也已经接近突破的边缘了,但具体到了哪一步,康驰也不清楚。
他打算先试着了解一下情况,
如果条件允许,价格合适的话,他可能会直接向他们进行采购,
哪怕技术稍微不达标,采购过来自己再进行改良优化,也能节省大量的时间和精力。
毕竟一台光刻机里面,有足足十几二十万的零部件,全靠大唐重工自己来做的话,那得搞到猴年马月去。
而向他们采购,既不浪费他们的科研成果,还能利用上他们的生产力,
也算是共赢了。
所以康驰这次,并不排斥自己成为组装、调试和改良的角色。
放着华国这么完整的产业链不用,反倒自己去搓每个螺丝,不但浪费国内这么好资源和基础,更是闭门造车吃独食的表现。
而能用本国的产业链,来完成一台光刻机的所有零件制造,全球有且只有一个国家才有可能做到,
那就是华国。
换成老M也不行。
他们也没办法只在本国,就找到光刻机全部零部件的供应商,得全球多国合作协同才行。
而巨大的资源协调成本,更是会大大加重整个研发项目的费用和时间,
这也是华国的很多产品,能做到成本远低于国外厂商的主要原因之一。
总之,无论常春光所有没有突破EUV光源的技术,康驰都可以尝试着借用他的研发制造能力,来迅速获得一套可行的光源系统。
现在光刻的光有了,
下一步就是把光,通过一个光学系统,收集并投影到涂上了光刻胶的硅片上面。
这个光学系统,也是整台光刻机中,造价成本占比最大的。
这部分康驰准备对大秦光学的镜头生产线,进行升级,然后把它给拆了,直接获得光刻机镜片和反射镜制造,所需要的大部分设备零件。
这么做的效率无疑会高很多,
而且升级后的生产线,估计连解析项目都没有,
因为里面的大部分技术,康驰在解析光刻机的时候,就已经得到了,他本人拥有非常大的解释空间。
唯一的缺点就是,需要他在接下的项目中,进行一定的混淆视听,把这些拆分开的组件,神不知鬼不觉地掺到整个项目里去。
嗯,
就是欺负严辉他们对光刻机没啥研究,
到时候估计也是康驰让他们干什么,他们就干什么,思考空间并不多。
至于光刻机最后的一个关键系统,则是承载硅片的双工件台系统。
它的工作原理很简单,就是在光刻中不断的挪动硅片的曝光部位,但其中的技术含量其实非常大。
因为这个工作平台必须快、准、狠。
速度,决定了光刻机的效率,
移动太慢了,光刻机的产量就不行,
这就要求它,在高速移动后,还得迅速且精准地停下,
停留的位置误差,还得在1nm以内,
但凡偏差大一点,整个晶圆就直接报废了!
这啥概念?
大概就是一辆高速行驶的汽车,突然紧急刹停,然后停下位置误差还不能超过1毫米。
不过这个难点,在今年5月份的时候,刚好被铪工大给搞定了,
他们研发出来的真空高速超精激光干涉仪,位移的分辨率达到了惊人的5pm,位移误差控制在了30pm!
要知道,1000pm才等于1nm!
0.03nm的位移误差,简直牛逼到不行!
康驰简直怀疑,他们是不是和自己一样开了挂……
讲真,华国能人还是挺多的,
如果不靠系统,康驰自己虽然也有一定的把握可以攻克这种技术,但时间就不知道要多久了……
所以康驰一直也不断地在提醒自己,虽然系统确实好用,但自己学习和理解的脚步同样不能停下。
这不但是为了在解析技术的时候,减轻自己的痛苦,免得突然暴毙,更是为以后万一出现精通点不够,需要自研的情况出现时,不至于两眼一抹黑啥也干不了。
总之EUV光刻机的大部分技术难点,其实华国都已经攻克或即将攻克了,只不过具体哪些能够复刻落地量产,还是个未知数。
为了得到答案,康驰特地打了个电话给吕首长。
当听到康驰问光刻机的事情,吕首长顿时就打起了精神,连忙问道:“你准备搞光刻机研发?”
“嗯,有这个想法。”
“搞光刻机好啊!嗯……不过你不是忙着量产采油虫吗?哪来这么多的时间精力研发光刻机?”
“抽空玩玩呗……”
“……”
随后康驰又在吕首长的沉默中,咨询了关于常春光所EUV光源系统,和铪工大双工件台系统研究情况。
“嗯……他们确实都有了一定的突破,但具体到了什么技术节点,还有多久能实际落地,我也说不准……你可以找张院士问问,这方面他比较清楚。”
于是康驰挂了电话后,又拨通了张达远的电话,
结果张达远一听康驰的问题,直接就说电话上讲不清楚,让他过去燕京面谈。
康驰强烈怀疑,这老头就是想把他骗过去,忽悠他搞那个啥稳态微聚束光源,
但为了争取缩短光刻机研制周期的机会,康驰也不得不从了他……
反正过去后任他怎么说,康驰就是不跟他干,
他还能把康驰给扣了不成?
……
经过了两个多小时飞行,康驰在天黑前就抵达了燕京国际机场,
前来接机的是陈海的同事,三人汇合后,便直奔HEPS项目部。
经过层层安检和报备,康驰终于项目部里面,见到了带着安全帽,穿得像工地工人的张达远。
看到这个已经年近七十的老人,竟然还能精神抖擞地深居一线,亲自参与实验工程的建设,康驰也不禁感到有些佩服。
“张院士,好久不见了。”
刚见面,康驰便主动和他握了握手,赞叹道:“您可真是宝刀未老啊。”
“那必须的。”张达远得意地拉着康驰,“走走走,先带伱参观参观。”
面对张达远的热情,康驰自然也不好拒绝,
何况他本人,其实对这里也挺好奇的,于是便跟着张达远,在这个正在建设中的高能同步辐射光源里面,简单地转了一圈。
上一章差点被4,好在修改后放出来了。
估计如果写的太细太贴近事实,非常容易被4……
稳妥起见,接下来在技术和节点,可能会简单带过,
然后稍微夸张点,反正牛逼就完事了。
希望大家不用去较真找茬,就当是我瞎几把乱吹好了。
嗯,
事实上,我就是在吹牛逼,真的!
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EUV光刻机的核心技术,主要由三大系统构成。
首先是EUV光源系统,这个系统负责制造光刻过程中,需要用到的特殊光线。
从第一代的UV光刻机,到第五代的EUV光刻机,光线的波长也从436nm,缩短到了13.5nm,目前所有的光刻机,就是通过光线的不同,来区分技术等级的。
这其中主要涉及到的原理,就是光学中光线波长和清晰度的关系。
最简单的道理,就是进入黄色的钨丝灯房间,大部分人都会感觉视线昏暗,
哪怕多加几个灯泡,也始终感觉没有白色的LED灯那么明亮和清晰。
这就是因为黄色光的波长,要远高于白色光,
光线的波长,就像是海浪一样,越大的波浪,拍打在海防堤上的水位高低起伏就越大。
而这个水位的高低落差,换成在光学领域,就成了影响阴影边缘清晰度的重要因素。
因此,想要达到越小制程的芯片工艺,就需要波长越短,越无限接近绝对直线的光。
而在EUV光源技术上,据康驰目前所能查到的资料来看,国内的常春光所应该也已经接近突破的边缘了,但具体到了哪一步,康驰也不清楚。
他打算先试着了解一下情况,
如果条件允许,价格合适的话,他可能会直接向他们进行采购,
哪怕技术稍微不达标,采购过来自己再进行改良优化,也能节省大量的时间和精力。
毕竟一台光刻机里面,有足足十几二十万的零部件,全靠大唐重工自己来做的话,那得搞到猴年马月去。
而向他们采购,既不浪费他们的科研成果,还能利用上他们的生产力,
也算是共赢了。
所以康驰这次,并不排斥自己成为组装、调试和改良的角色。
放着华国这么完整的产业链不用,反倒自己去搓每个螺丝,不但浪费国内这么好资源和基础,更是闭门造车吃独食的表现。
而能用本国的产业链,来完成一台光刻机的所有零件制造,全球有且只有一个国家才有可能做到,
那就是华国。
换成老M也不行。
他们也没办法只在本国,就找到光刻机全部零部件的供应商,得全球多国合作协同才行。
而巨大的资源协调成本,更是会大大加重整个研发项目的费用和时间,
这也是华国的很多产品,能做到成本远低于国外厂商的主要原因之一。
总之,无论常春光所有没有突破EUV光源的技术,康驰都可以尝试着借用他的研发制造能力,来迅速获得一套可行的光源系统。
现在光刻的光有了,
下一步就是把光,通过一个光学系统,收集并投影到涂上了光刻胶的硅片上面。
这个光学系统,也是整台光刻机中,造价成本占比最大的。
这部分康驰准备对大秦光学的镜头生产线,进行升级,然后把它给拆了,直接获得光刻机镜片和反射镜制造,所需要的大部分设备零件。
这么做的效率无疑会高很多,
而且升级后的生产线,估计连解析项目都没有,
因为里面的大部分技术,康驰在解析光刻机的时候,就已经得到了,他本人拥有非常大的解释空间。
唯一的缺点就是,需要他在接下的项目中,进行一定的混淆视听,把这些拆分开的组件,神不知鬼不觉地掺到整个项目里去。
嗯,
就是欺负严辉他们对光刻机没啥研究,
到时候估计也是康驰让他们干什么,他们就干什么,思考空间并不多。
至于光刻机最后的一个关键系统,则是承载硅片的双工件台系统。
它的工作原理很简单,就是在光刻中不断的挪动硅片的曝光部位,但其中的技术含量其实非常大。
因为这个工作平台必须快、准、狠。
速度,决定了光刻机的效率,
移动太慢了,光刻机的产量就不行,
这就要求它,在高速移动后,还得迅速且精准地停下,
停留的位置误差,还得在1nm以内,
但凡偏差大一点,整个晶圆就直接报废了!
这啥概念?
大概就是一辆高速行驶的汽车,突然紧急刹停,然后停下位置误差还不能超过1毫米。
不过这个难点,在今年5月份的时候,刚好被铪工大给搞定了,
他们研发出来的真空高速超精激光干涉仪,位移的分辨率达到了惊人的5pm,位移误差控制在了30pm!
要知道,1000pm才等于1nm!
0.03nm的位移误差,简直牛逼到不行!
康驰简直怀疑,他们是不是和自己一样开了挂……
讲真,华国能人还是挺多的,
如果不靠系统,康驰自己虽然也有一定的把握可以攻克这种技术,但时间就不知道要多久了……
所以康驰一直也不断地在提醒自己,虽然系统确实好用,但自己学习和理解的脚步同样不能停下。
这不但是为了在解析技术的时候,减轻自己的痛苦,免得突然暴毙,更是为以后万一出现精通点不够,需要自研的情况出现时,不至于两眼一抹黑啥也干不了。
总之EUV光刻机的大部分技术难点,其实华国都已经攻克或即将攻克了,只不过具体哪些能够复刻落地量产,还是个未知数。
为了得到答案,康驰特地打了个电话给吕首长。
当听到康驰问光刻机的事情,吕首长顿时就打起了精神,连忙问道:“你准备搞光刻机研发?”
“嗯,有这个想法。”
“搞光刻机好啊!嗯……不过你不是忙着量产采油虫吗?哪来这么多的时间精力研发光刻机?”
“抽空玩玩呗……”
“……”
随后康驰又在吕首长的沉默中,咨询了关于常春光所EUV光源系统,和铪工大双工件台系统研究情况。
“嗯……他们确实都有了一定的突破,但具体到了什么技术节点,还有多久能实际落地,我也说不准……你可以找张院士问问,这方面他比较清楚。”
于是康驰挂了电话后,又拨通了张达远的电话,
结果张达远一听康驰的问题,直接就说电话上讲不清楚,让他过去燕京面谈。
康驰强烈怀疑,这老头就是想把他骗过去,忽悠他搞那个啥稳态微聚束光源,
但为了争取缩短光刻机研制周期的机会,康驰也不得不从了他……
反正过去后任他怎么说,康驰就是不跟他干,
他还能把康驰给扣了不成?
……
经过了两个多小时飞行,康驰在天黑前就抵达了燕京国际机场,
前来接机的是陈海的同事,三人汇合后,便直奔HEPS项目部。
经过层层安检和报备,康驰终于项目部里面,见到了带着安全帽,穿得像工地工人的张达远。
看到这个已经年近七十的老人,竟然还能精神抖擞地深居一线,亲自参与实验工程的建设,康驰也不禁感到有些佩服。
“张院士,好久不见了。”
刚见面,康驰便主动和他握了握手,赞叹道:“您可真是宝刀未老啊。”
“那必须的。”张达远得意地拉着康驰,“走走走,先带伱参观参观。”
面对张达远的热情,康驰自然也不好拒绝,
何况他本人,其实对这里也挺好奇的,于是便跟着张达远,在这个正在建设中的高能同步辐射光源里面,简单地转了一圈。
上一章差点被4,好在修改后放出来了。
估计如果写的太细太贴近事实,非常容易被4……
稳妥起见,接下来在技术和节点,可能会简单带过,
然后稍微夸张点,反正牛逼就完事了。
希望大家不用去较真找茬,就当是我瞎几把乱吹好了。
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事实上,我就是在吹牛逼,真的!
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